tzxnef作为单晶和多晶硅生产的保护气体，如何选择更高纯度的氩气是硅晶体生产中的一个问题，以提高硅晶体的质量。通过该装置的使用，当氩气纯度小于1ppm，水分含量小于1ppm时，生产的单晶硅氧碳含量小于0.5ppm，延长了单晶硅的使用寿命，满足了要求，赢得了客户的满意和市场的需求。
等离子清洗机通常使用许多不同的气体，如氧气、氢气、氮气、压缩空气或氩气。那么为什么要使用这种气体，它在等离子清洗机设备中的作用是什么？
氩是惰性气体，离子化的等离子体不会与衬底发生化学反应。在等离子体清洗中，氩气主要用于基片表面的物理清洗和表面粗糙化。因此，氩等离子清洗机广泛应用于半导体行业、微电子行业和晶圆制造行业。
氩气泄漏的处理措施。
迅速将泄漏污染区的人员撤离至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急响应人员穿戴自给式正压呼吸器和普通工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。泄漏的容器应在使用前进行适当的处理、修理和检查。